5.5 专门设计或制造用于气动浓缩厂的系统、设备和部件
按语
在气体动力学浓缩过程中，要压缩气态UF6和轻气体（氢或氦）的混合气，然后使其通过分离元件。在这些元件中，通过在一个曲壁几何结构面上产生的高离心力，完成同位素分离。已经成功地开发了这种类型的两个过程：喷嘴分离过程和涡流管过程。就这两种过程而言，一个分离级的主要部件包括容纳专用分离元件（喷嘴或涡流管）的圆筒状容器、气体压缩机和用来排出压缩热的热交换器。一座气动浓缩工厂需要若干个这种分离级：因此其数量是最终使用的一个重要指标。由于气动过程使用UF6，所有设备、管线和仪器仪表中与这种气体接触的表面，都必须用同UF6接触时能保持稳定的材料制成。
注释
本节所列物项不是直接接触UF6流程气体就是直接控制级联中的这种气流。所有接触流程气体的表面，均需用耐UF6材料制成或用耐UF6材料保护。就本节有关气动浓缩物项而言，耐UF6腐蚀的材料包括：铜、不锈钢、铝、铝合金、镍或含镍60%（或以上）的合金，以及耐UF6的完全氟化的烃聚合物。
5.5.1 分离喷嘴
专门设计或制造的分离喷嘴及其组件。分离喷嘴由一些狭缝状、曲率半径小于1㎜（一般为0.1㎜-0.05㎜）的耐UF6腐蚀的弯曲通道组成，喷嘴中有一分离楔尖能将流过该喷嘴的气体分成两部分。
5.5.2 涡流管
专门设计或制造的涡流管及其组件。涡流管呈圆筒形或锥形，用耐UF6腐蚀材料制成或加以保护，其直径在0.5㎝至4㎝之间，长径比率为20∶1或更小，并带有1个或多个切向进口。这些涡流管的一端或两端装有喷嘴型附件。
注释
供料气体在涡流管的一端切向进入涡流管，或通过一些旋流叶片，或从沿涡流管周边分布的若干个切向位置进入涡流管。
5.5.3 压缩机和鼓风机
专门设计或制造的用耐UF6腐蚀材料制成或加以保护的轴向离心式或正排量压缩机或鼓风机，其体积吸入能力为2m3/min或更大的UF6/载气（氢或氦）混合气。
注释
这些压缩机和鼓风机的压力比一般在1.2∶1和6∶1之间。
5.5.4 转动轴封
专门设计或制造的带有密封式进气口和出气口的转动轴封，用于密封把压缩机或鼓风机转子同驱动马达连接起来的转动轴，以保证可靠的密封，防止过程气体外漏或空气或密封气体渗入充满UF6/载气混合气的压缩机或鼓风机内腔。
5.5.5 冷却气体用热交换器
专门设计或制造的用耐UF6腐蚀材料制成或加以保护的热交换器。
5.5.6 分离元件外壳
专门设计或制造的用耐UF6腐蚀的材料制成或加以保护的用作容纳涡流管或分离喷嘴的分离元件外壳。
注释
这种外壳可以是直径大于300㎜、长度大于900㎜的圆筒状容器或尺寸相当的矩形容器，并可设计成便于水平安装或竖直安装的形式。
5.5.7 供料系统/产品和尾料提取系统
专门为浓缩工厂设计或制造的用耐UF6腐蚀材料制成的或加以保护的流程系统或设备，包括：
（a）供料釜、供料加热炉或供料系统，用于将UF6送入浓缩过程；
（b）凝华器（或冷阱），用于从浓缩过程中移出UF6，供下一步加热转移；
（c）固化器或液化器，用于通过压缩UF6并将其转换为液态形式或固态形式，从浓缩流程中移出UF6；
（d）"产品"器或"尾料"器，用于把UF6收集到容器中。
5.5.8 集管管路系统
专门为操作气动级联中的UF6设计或制造的用耐UF6腐蚀材料制成或保护的集管管路系统。这种管路系统通常是"双头"集管系统，每级或每个级组连接一个集管头。
5.5.9 真空系统和泵
（a）为在含UF6气氛中工作而专门设计或制造的抽气能力为5m3/min或更大的由若干真空歧管、真空集管和真空泵组成的真空系统；
（b）为在含UF6气氛中工作而专门设计或制造的用耐UF6腐蚀的材料制成或保护的真空泵。这些泵也可用氟碳密封和特殊工作流体。
5.5.10 特种截流阀和控制阀
专门设计或制造的由耐UF6腐蚀材料制成或保护的直径为40-1500㎜的可手动或自动的截流阀和控制波纹管阀，用来安装在气动浓缩工厂的主系统和辅助系统中。
5.5.11 UF6质谱仪/离子源
专门设计或制造的磁质谱仪或四极质谱仪，这些谱仪能从UF6气流中"在线"取得供料、产品或尾料的样品，并且具有以下所有特点：
1.质量的单位分辨率高于320；
2.离子源用尼赫罗姆合金或蒙乃尔合金制成或以这些材料作为衬里或镀镍；
3.电子轰击离子源；
4.有一个适合于同位素分析的收集器系统。
5.5.12 UF6/载气分离系统
专门设计或制造的将UF6与载气（氢或氦）分离开来的过程系统。
注释
这些系统是为将载气中的UF6含量降至1ppm或更低而设计的，并可装有下述的设备：
（a）低温热交换器和低温分离器，能承受－120℃或更低的温度，或
（b）低温制冷设备，能承受－120℃或更低的温度，或
（c）用于将UF6与载气分离开来的分离喷嘴或涡流管设备，或
（d）UF6冷阱，能承受－20℃或更低的温度。
5.6 专门设计或制造用于化学交换或离子交换浓缩工厂的系统、设备和部件
按语
铀的几种同位素在质量上的微小差异，能引起化学反应平衡小的变化。这可用作同位素分离的基础。已经开发成功两种工艺过程：液－液化学交换过程和固－液离子交换过程。
在液－液化学交换过程中，两种不混溶的液相（水相和有机相）作逆流接触，结果给出数千分离级的级联效果。水相由含氯化铀的盐酸溶液组成；有机相由载氯化铀的萃取剂的有机溶剂组成。分离级联中使用的接触器可以是液－液交换柱（例如带有筛板的脉冲柱），或是液体离心接触器。在分离级联的两端要求实现化学转化（氧化和还原）以保证各端的回流要求。一个重要的设计问题是避免这些过程物流被某些金属离子沾污。所以，一般使用塑料的、衬塑料的（包括用氟碳聚合物）和（或）衬玻璃的柱和管线。
在固－液离子交换过程中，浓缩是由铀在一种特制的作用很快的离子交换树脂或吸附剂上的吸附/解吸完成的。使铀的盐酸溶液和其他化学试剂，从载有吸附剂填充床的圆筒形浓缩柱中通过。就一个连续过程而言，需要有一个回流系统，以便把从吸附剂上解吸下来的铀返回到液流中，这样便可收集"产品"和"尾料"。这是通过使用适宜的还原/氧化化学试剂来完成的。这些试剂可在单独的外部系统中完全再生，并可在同位素分离柱内部分地再生。由于在这种工艺过程中有热的浓盐酸溶液存在，使用的设备应该用专门的耐腐蚀材料制造或保护。
5.6.1 液－液交换柱（化学交换）
为使用化学交换过程的铀浓缩工厂专门设计或制造的有机械动力输入的逆流液－液交换柱（即带有筛板的脉冲柱、往复板柱和带有内部涡轮混合器的柱）。为了耐浓盐酸溶液的腐蚀，这些交换柱及其内部构件一般用适宜的塑料（例如氟碳聚合物）或玻璃制作或保护。交换柱的级停留时间一般被设计得很短（30秒或更短）。
5.6.2 液－液离心接触器（化学交换）
为使用化学交换过程的铀浓缩工厂而专门设计或制造的液－液离心接触器。此类接触器利用转动来达到有机相与水相的分散，然后借助离心力来分离开这两相。为了耐浓盐酸溶液的腐蚀，这些接触器一般用适当的塑料（例如碳氟聚合物）来制造或作衬里，或衬以玻璃。离心接触器的级停留时间被设计得很短（30秒或更短）。
5.6.3 铀还原系统和设备（化学交换）
（a）为使用化学交换过程的铀浓缩工厂专门设计或制造的、用来将铀从一种价态还原为另一种价态的电化学还原槽。与过程溶液接触的这种槽的材料必须能耐浓盐酸溶液腐蚀。
注释
这种槽的阴极室必须设计成能防止铀被再氧化到较高的价态。为了把铀保持在阴极室中，这种槽可有一个由特种阳离子交换材料制成的抗渗的隔膜。阴极一般由石墨之类适宜的固态导体组成。
（b）装在级联的产品端为将有机相流中的U＋4移出、调节酸浓度和向电化学还原槽供料而专门设计或制造的系统。
注释
这些系统由以下设备组成：将有机相流中的U＋4反萃取到水溶液中的溶剂萃取设备，完成溶液pH值调节和控制的蒸发设备和（或）其他设备，以及向电化学还原槽供料的泵或其他输送装置。一个重要的设计问题是要避免水相流被某些种类的金属离子沾污。因此，对该系统那些接触这种过程物流的部分，要用适当的材料（例如玻璃、碳氟聚合物、聚苯硫酸酯、聚醚砜和用树脂浸过的石墨）制成或保护的设备来构成。
5.6.4 供料准备系统（化学交换）
专门设计或制造的用来为化学交换铀同位素分离工厂生产高纯氯化铀供料溶液的系统。
注释
这些系统由进行纯化所需的溶解设备、溶剂萃取设备和（或）离子交换设备，以及用来将U＋6或U＋4还原为U＋3的电解槽组成。这些系统产生只含几个ppm的铬、铁、钒、钼和其他两价或价态更高的阳离子金属杂质的氯化铀溶液。处理高纯度U＋3系统的若干部分的建造材料包括玻璃、碳氟聚合物、聚苯硫酸酯或聚醚砜塑料衬里的石墨和用树脂浸过的石墨。
5.6.5 铀氧化系统（化学交换）
专门设计或制造用于将U＋3氧化为U＋4以便返回化学交换浓缩过程的铀同位素分离级联的系统。
注释
这些系统可装有如下设备：
（a）使氯气和氧气与来自同位素分离设备的水相流相接触的设备以及将所得U＋4萃入由级联的产品端返回的已被反萃取过的有机相的设备；
（b）使水与盐酸分离开来，以便水和加浓了的盐酸可在适当位置被重新引入工艺过程的设备。
5.6.6 快速反应离子交换树脂/吸附剂（离子交换）
为以离子交换过程进行铀浓缩而专门设计或制造的快速反应离子交换树脂或吸附剂包括：多孔大网络树脂，和（或）薄膜结构（在这些结构中，活性化学交换基团仅限于非活性多孔支持结构表面的一个涂层），以及处于包括颗粒或纤维在内的任何适宜形式的其他复合结构。这些离子交换树脂/吸附剂的直径有0.2㎜或更小，而且在化学性质上必须能耐浓盐酸溶液腐蚀，在物理性质上必须有足够的强度因而在交换柱中不被降解。这些树脂/吸附剂是专门为实现很快的铀同位素交换动力学过程（低于10秒的交换速率减半期）而设计的，并且能在100-200℃的温度范围内操作。
5.6.7 离子交换柱（离子交换）
为以离子交换过程进行铀浓缩而专门设计或制造的用于容纳和支撑离子交换树脂/吸附剂填充床层的直径大于1000㎜的圆柱。这些柱一般用耐浓盐酸溶液腐蚀的材料（例如钛或碳氟塑料）制成或保护，并能在100-200℃的温度范围内和高于0.7MPa（102psi）的压力下操作。
5.6.8 离子交换回流系统（离子交换）
（a）专门设计或制造的用于使离子交换铀浓缩级联中所用化学还原剂再生的化学或电化学还原系统。
（b）专门设计或制造的用于使离子交换铀浓缩级联中所用化学氧化剂再生的化学或电化学氧化系统。
注释
离子交换浓缩过程可使用例如Ti＋3作为还原阳离子，在这种情况下，所用还原系统将通过还原Ti＋4使Ti＋3再生。
离子交换浓缩过程可使用例如Fe＋3作为氧化剂，在这种情况下，所用氧化系统将通过氧化Fe＋2来使Fe＋3再生。
5.7 专门设计或制造用于以激光为基础的浓缩工厂的系统、设备和部件
按语
目前利用激光的浓缩过程的系统有两类：一类是过程介质为原子铀蒸气的系统，另一类是过程介质为铀化合物的蒸气的系统。这些过程的通用名称包括：第一类--原子蒸气激光同位素分离（AVLIS或SILVA）；第二类--分子激光同位素分离（MLIS或MOLLS）和同位素选择性激光活化化学反应（CRISLA）。用于激光浓缩工厂的系统、设备和部件包括：（a）铀金属蒸气供料装置（用于选择性光电离）或铀的化合物蒸气供料装置（用于光离解或化学活化）；（b）第一类中作为"产品"和"尾料"的浓缩的铀金属和贫化的铀金属收集装置，和第二类中作为"产品"的离解的或反应的化合物和作为"尾料"的未发生变化材料的收集装置；（c）用于选择性地激发铀－235的激光过程系统；和（d）供料准备设备和产品转化设备。鉴于铀原子和铀化合物能谱的复杂性，可能需要同现有激光技术中的任何一种联合使用。
注释
本节所列的许多物项将直接接触铀金属蒸气、液态金属铀，或由UF6或UF6和其他气体的混合物组成的过程气体。所有与铀或UF6接触的表面，都全部由耐腐蚀材料制造或保护。就有关基于激光的浓缩的物项而言，耐铀金属或铀合金蒸气或液体腐蚀的材料包括：氧化钇涂敷石墨和钽；耐UF6腐蚀的材料包括：铜、不锈钢、铝、铝合金、镍或含镍60%或以上的合金和耐UF6腐蚀的完全氟化的烃聚合物。
5.7.1 铀蒸发系统（AVLIS）
专门设计或制造的铀蒸发系统。这些系统含有大功率条带式或扫描式电子束枪，打到靶上的能量大于2.5kW/㎝。
5.7.2 液态铀金属处理系统（AVLIS）
专门设计或制造由一些坩埚及其冷却设备组成用于处理熔融铀或铀合金的液态金属处理系统。
注释
这种系统的坩埚和其他接触熔融铀或铀合金的部分，要用有适当的耐腐蚀和耐高温性能的材料制成或保护。适当的材料包括钽、氧化钇涂敷石墨、用其他稀土氧化物或其混合物涂敷的石墨。
5.7.3 铀金属"产品"和"尾料"收集器组件（AVLIS）
专门设计或制造用于收集液态或固态铀金属的"产品"和"尾料"收集器组件。
注释
这些组件的部件由耐铀金属蒸气或液体的高温和腐蚀性的材料（例如氧化钇涂敷石墨或钽）制成或保护。这类部件可包括用于磁、静电或其他分离方法的管、阀、管接头、"出料槽"、进料管、热交换器和收集板。
5.7.4 分离器组件外壳（AVLIS）
专门设计或制造的圆筒状或矩形容器，用于容纳铀金属蒸气源、电子束枪，及"产品"与"尾料"收集器。
注释
这些外壳有多种样式的开口，用于供电线路、供水管、激光束窗、真空泵接头及仪器仪表诊断和监测。这些开口均设有开闭装置，以便整修内部的部件。
5.7.5 超声膨胀喷嘴（MLIS）
专门设计或制造的超声膨胀喷嘴，用于冷却UF6与载气的混合气至150K或更低的温度。这种喷嘴耐UF6腐蚀。
5.7.6 五氟化铀产品收集器（MLIS）
专门设计或制造的UF5固态产品收集器。这种收集器是过滤式、冲击式或旋流式收集器，或其组合；并且耐UF5/UF6环境的腐蚀。
5.7.7 UF6/载气压缩机（MLIS）
为在UF6环境中长期操作而专门设计或制造的UF6/载气混合气压缩机。这些压缩机中与过程气体接触的部件用耐UF6腐蚀的材料制成或保护。
5.7.8 转动轴封（MLIS）
专门设计或制造的带密封进气口和出气口的转动轴封，用于密封把压缩机转子与驱动马达连接起来的转动轴，以保证可靠的密封，防止过程气体外漏，或空气或密封气体漏入充满UF6/载气混合气的压缩机内腔。
5.7.9 氟化系统（MLIS）
专门设计或制造的用于将UF5（固体）氟化为UF6（气体）的系统。
注释
这些系统是为将所收集的UF5粉末氟化为UF6而设计的。其UF6随后将被收集于产品容器中，或作为进料被转送到为进行进一步浓缩而设置的MLIS单元中。在一种方案中，这种氟化反应可在同位素分离系统内部完成，以便一离开"产品"收集器便反应和回收。在另一种方案中，UF5粉末将被从"产品"收集器中移出/转送到一个适当的反应容器（例如流化床反应器、螺旋反应器或火焰塔式反应器）中进行氟化。在这两种方案中，都使用氟气（或其他适宜的氟化剂）贮存和转送设备，以及UF6收集和转送设备。
5.7.10 UF6质谱仪/离子源（MLIS）
专门设计或制造的磁质谱仪或四极质谱仪，这些质谱仪能从UF6气流中"在线"取得供料、"产品"或"尾料"的样品，并且具有以下所有特点：
1.质量的单位分辨率高于320；
2.离子源用尼赫罗姆合金或蒙乃尔合金制成或以这些材料作为衬里或镀镍；
3.电子轰击离子源；
4.有一个适合于同位素分析的收集器系统。
5.7.11 进料系统/产品和尾料提取系统（MLIS）
为浓缩厂专门设计或制造的工艺系统或设备，用耐UF6腐蚀的材料制成或保护，包括：
（a）进料釜、加热炉或系统，用于将UF6送入浓缩过程；
（b）凝华器（或冷阱），用于从浓缩过程中移出UF6，供下一步加热转移；
（c）固化或液化器，用于通过压缩UF6并将其转换为液态形式或固态形式，从浓缩过程中移出UF6；
（d）"产品"器或"尾料"器，用于把UF6收集到容器中。
5.7.12 UF6/载气分离系统（MLIS）
为将UF6从载气中分离出来专门设计或制造的工艺系统。载气可为氮、氩或其他气体。
注释
这类系统可装有如下设备：
（a）低温热交换器或低温分离器，能承受－120℃或更低的温度；或
（b）低温冷冻器，能承受－120℃或更低的温度；或
（c）UF6冷阱，能承受－20℃或更低的温度。
5.7.13 激光系统（AVLIS，MLIS和CRISLA）
为铀同位素分离专门设计或制造的激光器或激光系统。
注释
AVLIS过程使用的激光系统通常由两个激光器组成：一个铜蒸气激光器和一个染料激光器。MLIS使用的激光系统通常由一个CO2激光器或受激准分子激光器和一个多程光学池（两端有旋转镜）组成。这两种过程使用的激光器或激光系统都需要有一个谱频稳定器以便能够长时间地工作。
5.8 专门设计或制造的用于等离子体分离浓缩厂的系统、设备和部件
按语
在等离子体分离过程中，铀离子等离子体通过一个调到铀－235离子共振频率的电场，使铀－235离子优先吸收能量并增大它们螺旋状轨道的直径。具有大直径径迹的离子被捕集从而产生铀－235被浓集的产品。由电离的铀蒸气组成的等离子体被约束在由超导磁体产生的高强度磁场的真空室内。这个过程的主要技术系统包括铀等离子体发生系统、带有超导磁体的分离器组件和用于搜集"产品"和"尾料"的金属移出系统。
5.8.1 微波动力源和天线
为产生或加速离子专门设计或制造的微波动力源和天线，具有以下特性：频率高于30GHz，且用于产生离子的平均功率输出大于50kW。
5.8.2 离子激发线圈
专门设计或制造的射频离子激发线圈，用于高于100kHz的频率并能够输送的平均功率高于40kW。
5.8.3 铀等离子体发生系统
为产生铀等离子体专门设计或制造的系统，这种系统可装有高功率条带式或扫描式电子束枪，打到靶上的能量高于2.5kW/㎝。
5.8.4 液态铀金属操作系统
专门设计或制造的用于熔融的铀或铀合金的液态金属操作系统，包括坩埚和坩埚用冷却设备。
注释
这种系统中与熔融的铀或铀合金接触的坩埚和其他部件由适当的抗腐蚀和抗热材料构成或由这种材料作防护层。可适用的材料包括钽、有钇涂层的石墨、有其他稀土氧化物或这类氧化物的混合物涂层的石墨。
5.8.5 铀金属"产品"和"尾料"收集器组件
专门设计或制造的用于固态铀金属的"产品"和"尾料"收集器组件。这类收集器组件由抗热和抗铀金属蒸气腐蚀的材料构成或由这类材料作防护层，例如有钇涂层的石墨或钽。
5.8.6 分离器组件外壳
专门设计或制造的圆筒形容器，供等离子体分离浓缩厂用来容纳铀等离子体源、射频驱动线圈及"产品"和"尾料"收集器。
注释
这种外壳有多种形式的开口，用于供电线路、扩散泵接头及仪器仪表诊断和监测。这些开口设有开闭装置，以便整修内部部件；它们由适当的非磁性材料例如不锈钢构成。
5.9 专门设计或制造的用于电磁浓缩厂的系统、设备和部件
按语
在电磁过程中，由一种盐原料（典型的是四氯化铀）离子化产生的金属铀离子被加速并通过一个能使不同同位素离子沿不同轨迹运动的磁场。电磁同位素分离器的主要部件包括：同位素离子束分散/分离用的磁场、离子源及其加速系统和收集经分离的离子的系统。这个过程的辅助系统包括磁体供电系统、离子源高压供电系统、真空系统以及产品回收及部件的清洁/再循环用多种化学处理系统。
5.9.1 同位素电磁分离器
为分离铀同位素专门设计或制造的同位素电磁分离器及其设备和部件包括：
（a）离子源
专门设计或制造的单个或多个铀离子源由蒸气源、电离器和束流加速器组成，用石墨、不锈钢或铜等适当材料制造，能提供总强度为50mA或更高的离子束流。
（b）离子收集器
收集器板极由专门为收集浓缩和贫化铀离子束而设计或制造的两个或多个槽和容器组成，用石墨或不锈钢一类的适当材料制造。
（c）真空外壳
为铀电磁分离器专门设计或制造的真空外壳，用不锈钢一类适当的非磁性材料制造，设计在0.1Pa或以下的压力下运行。
注释
外壳专门设计成装有离子源、收集器板极和水冷却管路，并有用于扩散泵连接结构和可用来移出和重新安装这些部件的开闭结构。
（d）磁极块
专门设计或制造的磁极块，直径大于2m，用来在同位素电磁分离器内维持恒定磁场并在毗连分离器之间传输磁场。
5.9.2 高压电源
为离子源专门设计或制造的高压电源，具有以下所有特点：能连续工作，输出电压为20000V或更高，输出电流为1A或更大，电压稳定性在8小时内高于0.01%。
5.9.3 磁体电源
专门设计或制造的高功率直流磁体电源，具有以下所有特点：能在100V或更高的电压下持续产生500A或更大的电流输出，电流或电压稳定性在8小时内高于0.01%。
6.生产和浓集重水、氘和氘化物的工厂和专门为其设计或制造的设备
按语
重水可以通过多种方法生产。然而只有两种方法已证明具有商业意义：水－硫化氢交换法（GS法）和氨－氢交换法。
GS法是基于在一系列塔内（通过顶部冷和底部热的方式操作）水和硫化氢之间氢与氘交换的一种方法。在此过程中，水向塔底流动，而硫化氢气体从塔底向塔顶循环。使用一系列多孔塔板促进硫化氢气体和水之间的混合。在低温下氘向水中迁移，而在高温下氘向硫化氢中迁移。氘被浓缩了的硫化氢气体或水从第一级塔的热段和冷段的接合处排出，并且在下一级塔中重复这一过程。最后一级的产品（氘浓缩至30%的水）送入一个蒸镏单元以制备反应堆级的重水（即99.75%的氧化氘）。
氨－氢交换法可以在催化剂存在下通过同液态氨的接触从合成气中提取氘。合成气被送进交换塔，而后送至氨转换器。在交换塔内气体从塔底向塔顶流动，而液氨从塔顶向塔底流动。氘从合成气的氢中洗涤下来并在液氨中浓集。液氨然后流入塔底部的氨裂化器，而气体流入塔顶部的氨转换器。在以后的各级中进一步浓缩，最后通过蒸馏生产出反应堆级重水。合成气进料可由氨厂提供，而这个氨厂也可以结合氨－氢交换法重水厂一起建造。氨－氢交换法也可以用普通水作为氘的供料源。
利用GS法或氨-氢交换法生产重水的工厂所用的许多关键设备物项是与化学工业和石油工业的若干生产工序所用设备相同的。对于利用GS法的小厂来说尤其如此。然而，这种设备物项很少有"现货"供应。GS法和氨－氢交换法要求在高压下处理大量易燃、有腐蚀性和有毒的流体。因此，在制定使用这些方法的工厂和设备所用的设计和运行标准时，要求认真注意材料的选择和材料的规格，以保证在长期服务中有很高的安全性和可靠性。规模的选择主要取决于经济性和需要。因而，大多数设备物项将按照用户的要求制造。最后，应该指出，对GS法和氨－氢交换法而言，那些单独地看并非专门设计或制造用于重水生产的设备物项可以组装成专门设计或制造用于生产重水的系统。氨－氢交换法所用的催化剂生产系统和在上述两种方法中将重水最终加浓至反应堆级所用的水蒸馏系统就是此类系统的实例。
专门设计或制造用于利用GS法或氨－氢交换法生产重水的设备物项包括如下：
6.1 水－硫化氢交换塔
专门设计或制造用于利用GS法生产重水的、用优质碳钢（例如ASTMA516）制造的交换塔。该塔直径6m（20英尺）至9m（30英尺），能够在大于或等于2MPa（300psi）压力下和6㎜或更大的容许腐蚀量下运行。
6.2 鼓风机和压缩机
专门为利用GS法生产重水而设计或制造的用于循环硫化氢气体（即含H2S70%以上的气体）的单级、低压头（即0.2MPa或30psi）离心式鼓风机或压缩机。这些鼓风机或压缩机的气体通过能力大于或等于56 m3/s（120000SCFM），能在大于或等于1.8MPa（260psi）的吸入压力下运行，并有对湿H2S介质的密封设计。
6.3 氨－氢交换塔
专门设计或制造用于利用氨-氢交换法生产重水的氨－氢交换塔。该塔高度大于或等于35m（114.3in），直径1.5m（4.9in）至2.5m（8.2in），能够在大于15MPa（2225psi）压力下运行。这些塔至少都有一个用法兰联结的轴向孔，其直径与交换塔筒体直径相等，通过此孔可装入或拆除塔内构件。
6.4 塔内构件和多级泵
专门为利用氨－氢交换法生产重水而设计或制造的塔内构件和多级泵。塔内构件包括专门设计的促进气/液充分接触的多级接触装置。多级泵包括专门设计的用来将一个接触级内的液氨向其他级塔循环的水下泵。
6.5 氨裂化器
专门设计或制造的用于利用氨-氢交换法生产重水的氨裂化器。该装置能在大于或等于3MPa（450psi）的压力下运行。
6.6 红外吸收分析器
能在氘浓度等于或高于90%的情况下"在线"分析氢/氘比的红外吸收分析器。
6.7 催化燃烧器
专门设计或制造的用于利用氨－氢交换法生产重水时将浓缩氘气转化成重水的催化燃烧器。
6.8 整体重水提浓系统，或其蒸馏塔
专门设计或制造用于将重水提浓至反应堆级氘浓度的整体重水提浓系统，或其蒸馏塔。
注释
通常采用水蒸馏技术从轻水中分离重水的这些系统是专门设计或制造用于由浓度较低的重水原料生产反应堆级重水的（即典型地99.75%氧化氘）。
7．分别如第4.和5.所定义的用于燃料元件制造和铀同位素分离的铀和钚转换厂和专门为其设计或制造的设备
出口
只有遵照《中华人民共和国核出口管制条例》所规定的程序才能出口本条款范围之内的成套主要设备。在本条款范围之内的所有工厂、系统和专门设计或制造的设备可用于处理、生产或使用特种可裂变材料。
7.1 铀转化厂及专门为其设计或制造的设备
按语
铀转化厂和系统可以对铀进行一种或几种转化使其从一种化学状态转变为另一种化学状态，包括：从铀浓缩物到UO3的转化；从UO3到UO2的转化；从铀的氧化物到UF4或UF6的转化；从UF4到UF6的转化；从UF6到UF4的转化；从UF4到金属铀的转化；以及从铀的氟化物到UO2的转化。铀转化工厂所用许多关键设备物项与化学加工工业的若干生产工序所用设备相同。例如，这些过程中使用的各类设备可以包括：加热炉、回转炉、流化床反应器、火焰塔式反应器、液体离心机、蒸馏塔和液-液萃取塔。不过，这些物项中很少有"现货"供应，大部分将须按用户要求和规格制造。在某些情况下，为了适应所处理的一些化学品（HF、F2、ClF3和各种铀的氟化物）的腐蚀性质以及核临界关切，需要作专门的设计和建造考虑。最后应该指出，在所有铀转化过程中，那些单独地看不是为铀转化专门设计或制造的设备物项，可被组装成专门为铀转化而设计或制造的系统。
7.1.1 为将UO3转化为UF6而专门设计或制造的系统
注释
从UO3到UF6的转化可以直接通过氟化实现。该过程需要一个氟气源或三氟化氯源。
7.1.2 为将UO3转化为UO2而专门设计或制造的系统
注释
从UO3到UO2的转化，可以用裂解的氨气还原UO3来实现。
7.1.3 为将UO2转化为UF4而专门设计或制造的系统
注释
从UO2到UF4的转化，可以用氟化氢气体（HF）在300-500℃与UO2反应来实现。
7.1.4 为将UF4转化为UF6而专门设计或制造的系统
注释
从UF4到UF6的转化，可以用氟气在塔式反应器中与UF4发生放热反应来实现。使流出气体通过一个冷却到－10℃的冷阱把热的流出气体中的UF6冷凝下来。该过程需要一个氟气源。
7.1.5 为将UF4转化为金属铀而专门设计或制造的系统
注释
从UF4到金属铀的转化，可用镁（大批量）或钙（小批量）还原UF4来实现。还原反应一般在高于铀熔点（1130℃）的温度下进行。
7.1.6 为将UF6转化为UO2而专门设计或制造的系统
注释
从UF6到UO2的转化，可用三种方法来实现。在第一种方法中，用氢气和水蒸气将UF6还原并水解为UO2。在第二种方法中，通过溶解在水中而将UF6水解，然后加入氨沉淀出重铀酸铵，接着可在820℃用氢气将重铀酸铵还原为UO2。在第三种方法中，将气态UF6、CO2和NH3通入水中，结果沉淀出碳酸铀酰铵。在500－600℃，碳酸铀酰铵与水蒸气和氢气发生反应，生成UO2。
从UF6到UO2的转化，通常是燃料制造厂的第一个工序。
7.1.7 为将UF6转化为UF4而专门设计或制造的系统
注释
从UF6到UF4的转化，是用氢还原实现的。
7.1.8 为将UO2转化为UCl4而专门设计或制造的设备
注释
从UO2到UCl4转化可通过两个流程之一。在第一个流程中，在大约400℃的温度下，UO2与四氯化碳（CCl4）发生反应。在第二个流程中，在大约700℃的温度下，以及存在碳黑（CAS1333－86－4）、一氧化碳的条件下，UO2与氯发生反应产生UCl4。
7.2 钚转化厂和专门为其设计或制造的设备
按语
钚转化厂和系统可以对钚进行一种或几种转化使其从一种化学状态转化为另一种化学状态。包括，从硝酸钚到PuO2的转化；从PuO2到PuF4的转化；以及从PuF4到钚金属的转化。通常钚转化厂与后处理设施相关，但是，也可能与钚燃料元件制造设施相关。许多钚转化厂的关键设备物项与化学加工工业的若干生产工序所用设备相同。例如，这些过程中使用的各类设备可以包括：加热炉、回转炉、硫化床反应器、火焰塔式反应器、液体离心机、蒸馏塔和液-液萃取塔。也需要热室、手套箱和遥控机械手。但是，这些物项很少有"现货"供应，大部分须按用户的要求和规格制造。对与钚有关的特殊的放射性、毒性和临界危险特别仔细的设计是关键的。在某些情况下，为了适应所处理的一些化学品（例如HF）的腐蚀性质，需要作专门的设计和建造考虑。最后应该注意，在所有的钚转化流程中，那些单独地看不是为钚转化专门设计或制造的设备物项，可被组装成专门为钚转化而设计或制造的系统。
7.2.1 为将硝酸钚转化到氧化钚而专门设计或制造的设备
注释
该流程包括的主要功能为：流程供料贮存和调料、沉淀和固－液分离，煅烧、产品处理、通风、废物管理，以及流程控制。流程系统经过特别的设计，以避免发生临界和辐射效应，以及使得毒性危险最小。在大多数后处理设施中，这一流程包括将硝酸钚转化到氧化钚。其它流程可能包括草酸钚或过氧化钚的沉淀。
7.2.2 为生产钚金属而专门设计或制造的设备
注释
该流程通常包括氧化钚的氟化，通常以高腐蚀性的氢氟酸来生产氟化钚，而后用高纯钙金属还原生成金属钚和氟化钙残渣。该流程所包括的主要功能是氟化（例如，包括采用贵重金属制造的或作为内衬的设备）、金属还原（例如，使用陶瓷坩埚）、残渣回收、产品处理、通风、废物管理和流程控制。流程系统经过特别的设计，以避免发生临界和辐射效应，以及使得毒性危险最小。其它流程包括草酸钚或过氧化钚的氟化，然后还原至金属。
|
